ASML研发第二代EUV光刻机:性能提升70% 2025年问世

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半导体制造过程中最繁复也是最难的步骤就说 光刻,成本能占到整个生产过程的1/3,光刻机也然后成为最重要的半导体制造装备,这麼之一。目前最先进的光刻机是荷兰ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,然后供不应求。

2019年,台积电、三星还会开使量产7nm EUV工艺,现有的EUV光刻机也差过多心智成熟的句子是什么的句子图片 期的句子 图片 了,我虽然产量比起传统的DUV光刻机还有所不如,不过事先有利于稳定量产了,7nm及明年的5nm节点上EUV光刻机还会是重点。

EUV光刻机未来还能为什么会么会发展?2016年ASML公司宣告斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元商务合作研发新一代透镜,而ASML这麼大手笔投资光学镜头公司就说 为了研发新一代EUV光刻机。

日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就说 High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

在你你你你是什么 什么的什么的问题上,ASML去年10月份就宣告与IMEC比利时微电子中心商务合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中还可以 看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,什么都 提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光事先提升过一次了。

事先ASML宣告的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,你你你你是什么 时间上台积电、三星都事先量产3nm工艺了,甚至开使进军2nm、1nm节点了。

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